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6月17日，激光加工设备厂商大族激光在互动平台表示，公司在研光刻机项目分辨率3-5μm，主要聚焦在分立器件、LED等领域的应用，今年有望实现小批量销售。
不久前，大族激光还在互动平台表示，目前公司正在研发光刻机项目，重心放在分立器件与LED等领域的应用。据了解，该光刻机产品应当是较为低端的光刻机设备。
资料显示，大族激光成立于1996年，是亚洲最大、世界排名前三的工业激光加工设备生产厂商，主要产品包括激光打标机系列、激光焊接机系列、激光切割机系列、新能源激光焊接设备、激光演示系列、PCB钻孔机系列、工业机器人等多个系列200余种工业激光设备及智能装备解决方案。
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英唐智控在互动平台表示，先锋微技术自有的生产设备中包含有日本产的光刻机设备，其收购事项已经获得日本政府批准。先锋微技术光刻机主要用于模拟芯片的制造，在满足其自身生产研发需要的前提下，不排除向具备条件的其他客户提供产能支持，但公司目前尚未启动该类型的合作。 值得注意的是，英唐智控在互动平台还指出，先锋微技术收购事项已经获得日本政府审批通过，因疫情原因，我方人员暂时无法入境日本以完成后续交割事项。 此前，英唐智控曾在互动平台上表示，按照协议约定，公司拟收购的日本芯片半导体厂商先锋微电子的股权交割时间预计不晚于 2020 年 7 月 1 日。 英唐智控指出，先锋微技术在光电数字信号转换传输领域的长期积累，可将其在光电
设备 /
光刻机是半导体制造中的核心设备之一，EUV光刻机全球也只有ASML公司能够研发、生产，但它的技术限制也很多，俄罗斯计划开发全新的EUV光刻机，使用的是X射线技术，不需要光掩模就能生产芯片。 光刻机的架构及技术很复杂，不过决定光刻机分辨率的主要因素就是三点，分别是常数K、光源波长及物镜的数值孔径，波长越短，分辨率就越高，现在的EUV光刻机使用的是极紫外光EUV，波长13.5nm，可以用于制造7nm及以下的先进工艺工艺。 俄罗斯莫斯科电子技术学院 (MIET)现在就接下了贸工部的6.7亿卢布资金（约合5100万元人民币），也要开发制造芯片的光刻机，而且号称要达到EUV级别，但技术原理完全不同，他们研发的是基于同步加速器和/或等
据businesskorea报道，三星电子副会长李在镕正敦促ASML的高管尽早交付三星今年订购的9台的EUV光刻机。 该报道指出，李在镕日前在到访荷兰时，与ASML的CEO Peter Wennink、CTO Martin van den Brink等高管进行了会晤。李在镕要求ASML提前1个月交付EUV光刻机。对于三星的要求，传ASML考虑最快11月出货。 据悉，ASML是全球唯一能够生产EUV光刻机的厂商，年产量为40余台，台积电方面希望获得全数供应。EUV光刻机的价格昂贵，每台要价约1.3亿美元，由于是EUV制程必需的关键设备，台积电与三星电子的竞争日益激烈。 三星为了全力追赶台积电，正快马加鞭导入EUV光刻机，并扩建晶
对于ASML光刻机接下来怎么出口的问题，现在官方终于给出了答案。 ASML在最新的声明中指出，这些新的出口管制措施侧重于先进的芯片制造技术，包括最先进的沉积设备和浸润式光刻系统。 ASML强调，新的出口管制措施并不针对所有浸润式光刻系统，而只涉及所谓“最先进”的浸润式光刻系统。截至目前企业尚未收到有关“最先进”的确切定义的信息，公司将其解读为在资本市场日会议上定义的“关键的浸润式光刻系统”，即TWINSCANNXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统。 所谓浸没式光刻机，属于193nm（光源）光刻机（分为干式和浸没式），可以被用于16nm至7nm先进制程芯片的制造，但是目前也有被业界广泛应用在45nm及以下的成熟制程
可以出口：还能支持7nm /
三星电子将以33.8亿美元向ASML采购20台EUV光刻机机台，平均每台1.7亿美金。用于先进制程晶圆代工和新一代DRAM生产。联想近日武汉长江存储陷疫区，存储产品涨价等消息。三星下面动作值得关注。 先进制程成为晶圆代工厂商相互竞争的关键领域，台积电去年就以极紫外光(EUV)光刻技术生产7纳米制程，让台积电连续两季创下同期新高纪录，全球独家供应EUV光刻设备的荷商艾司摩尔(ASML)功不可没。 据韩媒报导，三星已经在 2020 年的 1 月 15 日向ASML以 33.8 亿美元下单20台EUV光刻设备，这些设备将用于晶圆代工与下一代 DRAM 生产，最快在年底首度採用EUV设备生产。为了超越台积电，三星预期会扩大半
不久前，高通宣布未来集成5G基带的骁龙芯片将基于三星的7nm制造，具体来说是7nm LPP，使用EUV（极紫外）技术。 紧接着，三星就在华诚破土动工了一座新的7nm EUV工艺制造工厂，2020年之前要投产。 看似风风火火，但其实7nm EUV依然面临着不少技术难题。 据EETimes披露，在最近的芯片制造商会议上，有厂商就做了犀利地说明。 比如，GlobalFoundries研究副总裁George Gomba就表示，唯一有能力做250瓦EUV光刻机的ASML（阿斯麦）提供的现款产品NXE-3400仍不能满足标准，他们建议供应商好好检查EUV光罩系统，以及改进光刻胶。 这里对光刻做一下简单科普。 光刻就是将构成芯片的图案蚀刻到硅晶
据路透社报道，荷兰最高贸易官员表示，荷兰不会草率接受美国对向中国出口芯片制造技术的新限制，并正在与欧洲和亚洲盟友进行磋商。 荷兰贸易部长 Liesje Schreinemacher 周日在电视节目 Buitenhof 上发表讲话，随后荷兰首相马克·鲁特将于周二访问美国，届时他预计将与乔·拜登总统讨论出口政策。 荷兰最大的公司是 ASML Holding，它是半导体设备制造商的主要供应商。 在特朗普政府的施压下，荷兰政府拒绝了 ASML 自 2019 年以来将其最先进的机器运往中国的许可，但 ASML 在 2021 年向中国出售了价值 20 亿欧元的旧机器。 美国在 10 月份采取了旨在限制中国制造自己芯片的能力的措
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具有固定输出电压、5V 的典型应用电路，用于 ADP7105 20V、500mA、具有软启动功能的低噪声 LDO 稳压器
LTC3630EMSE 5V 至 65V 输入至 5V 输出、150mA 稳压器和 20kHz 最小突发频率的典型应用电路
使用 ON Semiconductor 的 LV5744V 的参考设计
ADP1829 PWM 降压控制器使用 8.0 V 至 16.0 V 作为输入电压
EVAL-ADF7242DB1Z，用于低功耗双模零中频 2.4GHz 收发器 IC
使用 MikroElektronika 的 BNO080 的参考设计
具有 2 事件分类识别功能的 LTC4265 IEEE 高功率 PD 接口控制器的典型应用
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